什么是真空鍍膜加工？簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體(稱(chēng)基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法，稱(chēng)為真空鍍膜。真空鍍膜加工是真空應用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。

眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過(guò)通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導體，而且薄膜厚度也難以控制。

后者是采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應，這種鍍膜方法不僅薄膜的結合強度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時(shí)還會(huì )產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴重的污染。因此，這兩種被人們稱(chēng)之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。真空鍍膜加工則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來(lái)的一種新型鍍膜技術(shù)，通常稱(chēng)為干式鍍膜技術(shù)。