一、概念的差異

1.真空鍍膜加工是指在高真空下加熱金屬或非金屬材料，在涂層零件（金屬、半導體或絕緣體）表面蒸發(fā)凝結形成薄膜的方法。

2.光學(xué)涂層是指在光學(xué)零件表面涂一層（或多層）金屬（或介質(zhì)）膜的過(guò)程。光學(xué)零件表面涂層的目的是減少或增加對光、分光、分色、濾波和偏振的反射。常用的涂層方法有真空涂層（物理涂層）和化學(xué)涂層。

二、原則差異

1.青島真空鍍膜加工是真空應用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面。它是一種以真空技術(shù)為基礎，采用物理或化學(xué)方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控管等一系列新技術(shù)的薄膜制備新技術(shù)。提供科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)。簡(jiǎn)單地說(shuō)青島真空鍍膜加工是一種在真空中蒸發(fā)或濺射金屬、合金或化合物以固化和沉積在涂層物體上的方法（稱(chēng)為基礎、基礎或基礎）。

2.光干涉廣泛應用于薄膜光學(xué)中。光學(xué)薄膜技術(shù)的常用方法是通過(guò)真空濺射在玻璃基板上涂層，一般用于控制基板對入射光束的反射率和透射率，以滿(mǎn)足不同的需求。為了消除光學(xué)部件表面的反射損失，提高成像質(zhì)量，涂了一層或多層透明介質(zhì)膜，稱(chēng)為抗反射膜或抗反射膜。隨著(zhù)激光技術(shù)的發(fā)展，對膜的反射率和透射率有不同的要求，促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶抗反射膜的發(fā)展。為了滿(mǎn)足各種應用程序的需要，高反射膜被用來(lái)制造偏振反射膜、分色膜、發(fā)光膜和干擾濾光片。涂抹在光學(xué)部件表面后，光反射和透射在各層上，形成多光束干擾。通過(guò)控制每層的折射率和厚度，可以獲得不同的強度分布，這是干擾涂層的基本原理。