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如何處理真空鍍膜機鍍制薄膜不均勻的問(wèn)題

點(diǎn)擊數:213 發(fā)表時(shí)間:2022-06-23 17:03:20

隨著(zhù)鍍膜技術(shù)的快速增長(cháng),各種類(lèi)型的真空鍍膜機也開(kāi)始逐漸出現。但是論起薄膜的均勻性,恐怕所有的真空設備鍍制的薄膜的均勻性都會(huì )受到某種因素影響,現在我們就濺控濺射鍍膜機來(lái)看看造成不均勻的因素有哪些。 對此,真空鍍膜機廠(chǎng)家指出,它的運作原理其實(shí)很簡(jiǎn)單。就是通過(guò)真空狀態(tài)下正交磁場(chǎng)使電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材,靶材離子沉積于工件表面成膜。

如何處理真空鍍膜機鍍制薄膜不均勻的問(wèn)題

如此車(chē)燈鍍膜機廠(chǎng)家就該考慮與膜層厚度的均勻性有關(guān)的有真空狀態(tài)、磁場(chǎng)、氬氣這三個(gè)方面。真空狀態(tài)就需要抽氣系統來(lái)控制的,每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開(kāi)動(dòng)并力度一致,這樣就可以控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內的壓強就不能均勻了,壓強對離子的運動(dòng)是存在一定的影響的。另外抽氣的時(shí)間也要控制,太短會(huì )造成真空度不夠,但太長(cháng)又浪費資源,不過(guò)有真空計的存在,要控制好還是不成問(wèn)題的。


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